02.06.2025 Скопље
Кинески технолошки џин „Хуавеј“, започео је развој праве 5 нм производне линије без коришћења ЕУВ (Extreme Ultraviolet) литографских машина.
ЕУВ је технологија коју је патентирала холандска компанија АСМЛ, и која је под забраном извоза у Кину.
Према писању портала УДН, кинески технолошки гигант користи алтернативу ССА800, литографске машине компаније Схангхаи Мицро Елецтроницс, у комбинацији са техником вишеструког узорковања (multi-patterning).
Осим тога, наводи се да Хуаwеи и његов главни партнер у производњи чипова, СМИЦ, већ раде на 3 нм технологији.
Истраживање се одвија у два смера: први користи ГАА архитектуру, какву примењују водећи светски произвођачи ТСМЦ и Самсунг, док се други фокусира на чипове засноване на карбонским наноцевима.
Припремила А.Ђ.
